Optyczne mikroelektroniczne oczyszczanie jest definiowane jako wykluczenie zanieczyszczeń, takich jak drobne cząstki pyłu, szkodliwe powietrze, bakterie i inne zanieczyszczenia w powietrzu w określonym zakresie przestrzeni oraz kontrolowanie temperatury i wilgotności pomieszczenia, czystości, ciśnienia wewnętrznego, prędkości przepływu powietrza i rozkładu przepływu powietrza, hałasu, wibracji i oświetlenia, elektryczności statycznej w określonym zakresie zapotrzebowań, a specjalnie zaprojektowanej zamkniętej przestrzeni.
Inżynieria oczyszczania optycznej mikroelektroniki, znana również jako pomieszczenie bezpyłowe lub pomieszczenie czyste, jest obecnie niezbędnym ważnym obiektem w półprzewodnikach, produkcji precyzyjnej, produkcji kryształów ciekłych, produkcji optycznej, produkcji płyt i przemyśle biochemicznym, medycznym i spożywczym. W ostatnich latach, ze względu na innowacyjny rozwój technologii, potrzeby na wysoką precyzję i miniaturyzację produktów są bardziej pilne, takie jak badania i produkcja obwodów integralnych o dużej wielkości, stały się bardzo ważnymi projektami w rozwoju nauki i technologii na całym świecie, a filozofia projektowania i technika budowy naszej firmy zajmują wiodącą pozycję w branży.
Inżynieria oczyszczania optycznej mikroelektroniki zazwyczaj obejmuje:
1 Czyste obszary produkcji
Czystość pomieszczeń pomocniczych (w tym pomieszczeń do czyszczenia personelu, pomieszczeń do czyszczenia materiałów i części pomieszczeń mieszkalnych itp.)
Obszar zarządzania (w tym biuro, służba, zarządzanie i odpoczynek itp.)
4, obszar wyposażenia (w tym aplikacje systemu klimatyzacji oczyszczającej, pomieszczenia elektryczne, pomieszczenia do użytku wody i gazu o wysokiej czystości, pomieszczenia do użytku ciepła i zimnego)
Zasada oczyszczania optycznej mikroelektroniki
Przepływ powietrza → Początkowe oczyszczenie → Klimatyzacja → Średnie oczyszczenie → Wentylator → Rurury → Wysoko efektywne oczyszczenie otworu powietrza → Wdmuchanie do pomieszczenia → Usuwanie bakterii pyłu
Pozostałe cząstki → rolety powietrzne → początkowe oczyszczanie Powtórz powyższy proces, aby osiągnąć cel oczyszczania.
Parametry oczyszczania optycznej mikroelektroniki
Liczba zmian powietrza: 100 000 klas ≥ 15 razy; 10000 klasy ≥ 20 razy; 1000 ≥ 30 razy. Różnica ciśnienia: główny warsztat w stosunku do sąsiednich pomieszczeń ≥ 5Pa
Średnia prędkość wiatru: 10 stopni, 100 stopni 0,3-0,5 m / s; temperatura zima > 16 ° C; latem 26°C; Zmiany ± 2 ° C.
temperaturę 45-65%; Wilgotność w warsztacie proszku GMP jest odpowiednia w około 50%; Wilgotność w warsztacie elektroniki jest nieco wyższa, aby uniknąć wytwarzania elektryczności statycznej.
Hałas ≤ 65 dB (A); Nowy wiatr wynosi 10-30% całkowitej ilości powietrza; Światło 300LX.